一種三維自對準微孔陣列高通濾膜及其制作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201810820410.9 申請日 -
公開（公告）號 CN108905640B 公開（公告）日 2020-12-04
申請公布號 CN108905640B 申請公布日 2020-12-04
分類號 B01D67/00;B01D69/02 分類 一般的物理或化學的方法或裝置;
發(fā)明人 石劍;陳勇;劉瑞;汪莉 申請（專利權）人 廣州安方生物科技有限公司
代理機構 廣州凱東知識產權代理有限公司 代理人 姚迎新
地址 510000 廣東省廣州市廣州國際生物島寰宇三路36、38號合景星輝廣場北塔地上第2層自編239-251房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種三維自對準微孔陣列高通濾膜及其制作方法，濾膜分為操作區(qū)和過濾區(qū)，操作區(qū)位于濾膜四周，過濾區(qū)位于濾膜中間，過濾區(qū)相對操作區(qū)凹陷，過濾區(qū)上設置三維自對準微孔，三維自對準微孔由上層孔和下層孔構成，上層孔和下層孔為同軸孔，上層孔為圓柱形孔，上層孔的孔徑小于下層孔，上層孔與下層孔連通，下層孔為圓柱形孔或者為孔徑至上而下逐漸變大的漸變形孔。本發(fā)明一方面通過減小上層孔厚度和增大下層孔孔徑來增加流體通量，另一方面通過下層孔增加濾膜的機械強度。本發(fā)明濾膜的制作方法結合了光刻技術、軟光刻復制技術、壓印技術和膜轉移技術，此方法簡便、快速，適用于不同材質微孔濾膜的制作和不同領域的應用。