一種保持硅晶片干燥的光刻機

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021382119.7 申請日 -
公開（公告）號 CN212569419U 公開（公告）日 2021-02-19
申請公布號 CN212569419U 申請公布日 2021-02-19
分類號 G03F7/20(2006.01)I; 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 李俊毅 申請（專利權）人 福建安芯半導體科技有限公司
代理機構 泉州市興博知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 易敏
地址 362300福建省泉州市南安市石井鎮(zhèn)院前村2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及光刻機設備領域，尤其涉及一種保持硅晶片干燥的光刻機。本實用新型要解決的技術問題是提供一種能夠持續(xù)對光刻機內部工作臺周圍進行干燥避免硅片存在水汽而影響光刻效果的光刻機。一種保持硅晶片干燥的光刻機，包括有整體外殼、工件傳輸裝置、激光光路設備、掩模臺、掩模板、投影物鏡、控制臺和芯片；工件傳輸裝置固接于整體外殼外壁；掩模傳輸設備固接于整體外殼內側壁；激光光路設備固接于整體外殼；掩模臺固接于激光光路設備底部；掩模板夾于激光光路設備與掩模臺之間；投影物鏡固接于掩模臺底部。本實用新型達到了能夠持續(xù)對光刻機內部工作臺周圍進行干燥避免硅片存在水汽而影響光刻效果的作用。??