冷燙膜、冷燙機(jī)以及冷燙方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110069917.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112757760A 公開（公告）日 2021-05-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN112757760A 申請(qǐng)公布日 2021-05-07
分類號(hào) B41F16/00;B41F19/06;B44C1/17;B44C1/165 分類 印刷；排版機(jī)；打字機(jī)；模印機(jī)〔4〕;
發(fā)明人 焦杰明;楊威 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳市冠為科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京卓嵐智財(cái)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 郭智
地址 518110 廣東省深圳市龍華區(qū)觀瀾街道大布巷社區(qū)觀光路1301-68銀星科技園豐和工業(yè)區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種冷燙膜、冷燙機(jī)及冷燙方法，所述冷燙膜包括若干個(gè)冷燙膜單元，所述冷燙膜單元包括燙印區(qū)，沿所述燙印區(qū)的長(zhǎng)度方向上設(shè)置有第一光標(biāo)區(qū)帶，所述第一光標(biāo)區(qū)帶將兩個(gè)燙印區(qū)之間的版縫覆蓋，且每個(gè)所述冷燙膜單元中所述燙印區(qū)的中間設(shè)置有第二光標(biāo)區(qū)帶，沿所述燙印區(qū)寬度方向的一側(cè)或兩側(cè)各設(shè)置有一個(gè)跟蹤區(qū)帶，與所述第一光標(biāo)區(qū)帶以及第二光標(biāo)區(qū)帶對(duì)應(yīng)的所述跟蹤區(qū)帶上形成有光標(biāo)。所述冷燙機(jī)及方法能夠?qū)崿F(xiàn)冷燙效果色相一致且避免版縫不良品，同時(shí)解決了現(xiàn)有冷燙膜版縫不良與色相偏差的問題，有效提高了產(chǎn)品合格率。