一種CVD碳化硅反應(yīng)腔室真空度測(cè)量裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202020029167.1 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN211717702U 公開(kāi)(公告)日 2020-10-20
申請(qǐng)公布號(hào) CN211717702U 申請(qǐng)公布日 2020-10-20
分類號(hào) G01L21/00(2006.01)I 分類 測(cè)量;測(cè)試;
發(fā)明人 白秋云 申請(qǐng)(專利權(quán))人 成都超純應(yīng)用材料有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 成都睿道專利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 潘育敏
地址 610200四川省成都市雙流區(qū)西航港空港二路1166號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種CVD碳化硅反應(yīng)腔室真空度測(cè)量裝置,設(shè)計(jì)真空度測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域,包括反應(yīng)腔室、第一移動(dòng)機(jī)構(gòu)、第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和用于測(cè)量反應(yīng)腔室內(nèi)真空度的真空測(cè)量件;通過(guò)第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使得真空測(cè)量件沿安裝軸的軸向運(yùn)動(dòng),即可測(cè)量出離沉積反應(yīng)不同高度處的真空度;通過(guò)第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使得真空測(cè)量件沿垂直于安裝軸軸線的方向運(yùn)動(dòng),即可測(cè)量出與沉積反應(yīng)同一高度,不同距離處的真空度。本實(shí)用新型具有可測(cè)量出不同位置處的真空度,提高控制壓力區(qū)間的準(zhǔn)確度的特點(diǎn)。??