一種射頻半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)及其制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010947697.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114171501A | 公開(公告)日 | 2022-03-11 |
申請公布號 | CN114171501A | 申請公布日 | 2022-03-11 |
分類號 | H01L23/552(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 黃河;向陽輝 | 申請(專利權(quán))人 | 中芯集成電路(寧波)有限公司上海分公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京思創(chuàng)大成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 高爽 |
地址 | 201210上海市浦東新區(qū)中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)蔡倫路85弄95號1幢3樓C區(qū)309 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種射頻半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)及其制造方法,其中,射頻半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)包括:基板,所述基板的第一表面為半導(dǎo)體層;第一射頻元件,位于所述半導(dǎo)體層;介質(zhì)層,位于所述半導(dǎo)體層上、覆蓋所述第一射頻元件;第一微波吸收層,設(shè)置于所述第一射頻元件的上方;和/或,第二微波吸收層,設(shè)置于所述第一射頻元件的下方;和/或,第三微波吸收層,設(shè)置于相鄰所述第一射頻元件之間。本發(fā)明的第一微波吸收層、第二微波吸收層和第三微波吸收層能夠吸收射頻器件產(chǎn)生的電磁波,進(jìn)而減少射頻器件之間或射頻器件與半導(dǎo)體襯底之間的電磁耦合。 |
