一種制備梯度薄膜的真空鍍膜裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021417217.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN213013064U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-04-20 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213013064U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-04-20 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 郭鴻杰;馮秋潔 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 寧波星河材料科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京品源專(zhuān)利代理有限公司 | 代理人 | 潘登 |
| 地址 | 315000浙江省寧波市寧波高新區(qū)寧波新材料創(chuàng)新中心東區(qū)1幢1號(hào)10-4-1 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型提供了一種制備梯度薄膜的真空鍍膜裝置，包括真空腔體，以真空腔體底面為XY平面，XY平面方向，過(guò)基片中心的直線與基片邊緣交點(diǎn)為線段一，過(guò)坩堝頂面中心直線與坩堝頂面邊緣的交點(diǎn)為線段二，使線段一與線段二相交于旋轉(zhuǎn)基片托架與熱蒸發(fā)裝置之間，所述掩膜板遠(yuǎn)離真空腔體內(nèi)壁的側(cè)面過(guò)線段一與線段二的交點(diǎn)。本實(shí)用新型通過(guò)使掩膜板在特定地交點(diǎn)位置，通過(guò)結(jié)合基片旋轉(zhuǎn)實(shí)現(xiàn)了在基片表面梯度薄膜的制備，且所述制備梯度薄膜的真空鍍膜裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，便于本領(lǐng)域技術(shù)人員進(jìn)行操控。?? |
