一種便于更換坩堝的高通量薄膜制備裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120670814.1 申請日 -
公開（公告）號 CN215481225U 公開（公告）日 2022-01-11
申請公布號 CN215481225U 申請公布日 2022-01-11
分類號 C23C14/24（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 郭鴻杰;楊露明;馮秋潔 申請（專利權(quán)）人 寧波星河材料科技有限公司
代理機構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 潘登
地址 315000浙江省寧波市寧波高新區(qū)寧波新材料創(chuàng)新中心東區(qū)1幢1號10-4-1
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及一種便于更換坩堝的高通量薄膜制備裝置，包括蒸發(fā)腔與存儲腔；所述蒸發(fā)腔通過軟連接管路與存儲腔連通；所述蒸發(fā)腔與存儲腔的連通管路設(shè)置有截止件；所述蒸發(fā)腔內(nèi)設(shè)置有蒸發(fā)源以及用于放置坩堝的凹槽；所述存儲腔內(nèi)設(shè)置有坩堝存儲架以及機械手；所述機械手用于坩堝在凹槽以及坩堝存儲架之間的運輸；所述坩堝為圓臺狀坩堝。本實用新型通過存儲腔的設(shè)置，實現(xiàn)在真空環(huán)境下對坩堝進行更換，從而實現(xiàn)多種材料的交替鍍膜，有利于實現(xiàn)多種材料對同一基片的真空鍍膜，且能夠完全避免材料的交叉污染問題。