一種高通量分立掩膜裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201910727545.5 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112342494A | 公開（公告）日 | 2021-02-09 |
| 申請公布號 | CN112342494A | 申請公布日 | 2021-02-09 |
| 分類號 | C23C14/04(2006.01)I;C23C16/04(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 余應(yīng)明;郭鴻杰;魯森錢 | 申請（專利權(quán)）人 | 寧波星河材料科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海一平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 徐迅;唐雪嬌 |
| 地址 | 315000浙江省寧波市寧波高新區(qū)寧波新材料創(chuàng)新中心東區(qū)1幢1號10-4-1 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及高通量組合材料制備系統(tǒng)領(lǐng)域，公開了一種高通量分立掩膜裝置。該高通量分立掩膜裝置包括：基片托架，用于放置基片，所述基片托架通過基片托架升降電機(jī)和基片托架旋轉(zhuǎn)電機(jī)控制升降和旋轉(zhuǎn)；掩膜機(jī)械臂，所述掩膜機(jī)械臂通過掩膜機(jī)械臂旋轉(zhuǎn)電機(jī)控制旋轉(zhuǎn)；掩膜支架，用于放置掩膜片，所述掩膜支架通過掩膜支架升降電機(jī)控制升降；所述基片托架，掩膜機(jī)械臂和掩膜支架依次置于一個(gè)真空腔體內(nèi)，所述掩膜機(jī)械臂在掩膜支架和基片托架之間轉(zhuǎn)動(dòng)取放掩膜。本發(fā)明通過掩膜機(jī)械臂將原多工位精確定位轉(zhuǎn)化為雙工位精確定位，實(shí)現(xiàn)精密定位，大大減少了真空腔體尺寸。?? |
