一種便于更換坩堝的高通量薄膜制備裝置及其應(yīng)用
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110358133.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112877649A | 公開（公告）日 | 2021-06-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112877649A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-01 |
| 分類號(hào) | C23C14/24 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 郭鴻杰;楊露明;馮秋潔 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 寧波星河材料科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 潘登 |
| 地址 | 315000 浙江省寧波市寧波高新區(qū)寧波新材料創(chuàng)新中心東區(qū)1幢1號(hào)10-4-1 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種便于更換坩堝的高通量薄膜制備裝置及其應(yīng)用，包括蒸發(fā)腔與存儲(chǔ)腔；所述蒸發(fā)腔通過軟連接管路與存儲(chǔ)腔連通；所述蒸發(fā)腔與存儲(chǔ)腔的連通管路設(shè)置有截止件；所述蒸發(fā)腔內(nèi)設(shè)置有蒸發(fā)源以及用于放置坩堝的凹槽；所述存儲(chǔ)腔內(nèi)設(shè)置有坩堝存儲(chǔ)架以及機(jī)械手；所述機(jī)械手用于坩堝在凹槽以及坩堝存儲(chǔ)架之間的運(yùn)輸；所述坩堝為圓臺(tái)狀坩堝。本發(fā)明通過存儲(chǔ)腔的設(shè)置，實(shí)現(xiàn)在真空環(huán)境下對(duì)坩堝進(jìn)行更換，從而實(shí)現(xiàn)多種材料的交替鍍膜，有利于實(shí)現(xiàn)多種材料對(duì)同一基片的真空鍍膜，且能夠完全避免材料的交叉污染問題。 |
