下電極底座裝置及真空鍍膜腔系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022807671.2 申請日 -
公開（公告）號 CN214327880U 公開（公告）日 2021-10-01
申請公布號 CN214327880U 申請公布日 2021-10-01
分類號 C23C16/50（2006.01）I;C23C16/54（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I;C23C16/46（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 楊寶海;楊娜;潘家永;許偉偉;宋玉超;李軼軍;李翔;李敦信;李義升 申請（專利權）人 營口金辰機械股份有限公司
代理機構 沈陽亞泰專利商標代理有限公司 代理人 周濤
地址 115000遼寧省營口市沿海產業(yè)基地新港大街95號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 下電極底座裝置及真空鍍膜腔系統(tǒng)屬于太陽能電池設備技術領域，尤其涉及一種用于制造異質結太陽能電池的PECVD下電極底座裝置及真空鍍膜系統(tǒng)。本實用新型提供的一種高效率、高精準、低成本的用于異質結PECVD設備的下電極底座裝置及真空鍍膜腔系統(tǒng)。本實用新型包括的用于異質結PECVD設備的下電極底座裝置，包括固定橫梁，其特征在于：固定橫梁上通過支腳設置有固定的下電極載片板，下電極載片板下方設置有下電極托盤組件，下電極托盤組件下方設置有升降系統(tǒng)。