一種熱納米壓印裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201520768338.1 申請日 -
公開（公告）號 CN205091541U 公開（公告）日 2016-03-16
申請公布號 CN205091541U 申請公布日 2016-03-16
分類號 G03F7/00 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 不公告發(fā)明人 申請（專利權(quán)）人 無錫鼎元納米科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 210028 江蘇省南京市棲霞區(qū)和燕路371號東南大學(xué)科技園科創(chuàng)樓C405
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種熱納米壓印裝置，主要包括：壓力腔1、真空腔2、加熱盤3、隔熱墊4、找平機(jī)構(gòu)5、壓印組合6等六大部分組成。壓力腔1與真空腔2通過鉸鏈相連接，通過安全扣203進(jìn)行鎖死，密封圈進(jìn)行密封；真空腔2裝有接觸傳感器202。當(dāng)壓力腔與真空腔閉合時，壓印程序才能提供壓力，進(jìn)行納米壓印過程，最終在PMMA，PC，PET等高分子薄膜上形成均勻的亞微米結(jié)構(gòu)。