一種改進(jìn)的低壓熔斷器

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201520522863.5 申請日 -
公開（公告）號 CN204809176U 公開（公告）日 2015-11-25
申請公布號 CN204809176U 申請公布日 2015-11-25
分類號 H01H85/044(2006.01)I;H01H85/05(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 朱澤江;溫天開 申請（專利權(quán)）人 好利來（中國）電子科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京風(fēng)雅頌專利代理有限公司 代理人 王安娜
地址 361000 福建省廈門市湖里區(qū)枋湖路9-19號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開的是一種改進(jìn)的低壓熔斷器，包括絕緣管、可熔體、內(nèi)帽以及外帽，所述可熔體設(shè)于絕緣管內(nèi)，所述內(nèi)帽和外帽各有兩個，所述兩內(nèi)帽分別套設(shè)于絕緣管的兩端，所述內(nèi)帽的側(cè)壁開設(shè)有至少一個缺口或裂縫，所述兩外帽分別套設(shè)于對應(yīng)的內(nèi)帽的外側(cè)壁上，所述可熔體的兩端穿過絕緣管和內(nèi)帽并與外帽的內(nèi)側(cè)壁抵觸連接，所述絕緣管內(nèi)填充有滅電弧材料。本實(shí)用新型在內(nèi)帽的側(cè)壁上開設(shè)缺口或裂縫，該缺口或裂縫并不改變內(nèi)帽的內(nèi)徑和外徑尺寸，不影響與絕緣管和外帽的裝配配合。由于在內(nèi)帽的側(cè)壁開設(shè)缺口或裂縫后，人們利用較小的力就可以把絕緣管壓入內(nèi)帽，保證內(nèi)帽不會因受力太大變形，從而使得外帽也不會變形。