一種帶寬可控的光纖光柵刻寫方法及裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201310228540.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN103308977B 公開(kāi)（公告）日 2016-08-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN103308977B 申請(qǐng)公布日 2016-08-10
分類號(hào) G02B6/02(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 劉偉平;葉曉平;蔣云鐘;苗圯;熊松松 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京品傲光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京凱特來(lái)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 北京品傲光電科技有限公司
地址 100176 北京市大興區(qū)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)科創(chuàng)十四街20號(hào)院12號(hào)樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種帶寬可控的光纖光柵刻寫方法及裝置，其中，該方法包括：對(duì)光纖進(jìn)行載氫處理，并去除其涂覆層；對(duì)激光發(fā)射器發(fā)射的預(yù)定波長(zhǎng)的激光光束進(jìn)行整形處理，并根據(jù)整形后的激光數(shù)據(jù)調(diào)節(jié)去除涂覆層后的該光纖的曝光區(qū)域；將整形處理的激光聚焦后經(jīng)過(guò)相位掩膜板，對(duì)該光纖的曝光區(qū)域進(jìn)行刻寫，獲得光纖光柵；上述方法可通過(guò)對(duì)應(yīng)的激光發(fā)射器、曝光區(qū)域調(diào)節(jié)模塊、柱面透鏡與相位掩膜板實(shí)現(xiàn)。本發(fā)明公開(kāi)的方法及裝置所刻寫的光纖光柵帶寬可不受限于刻寫紫外激光光斑尺寸和相位模板的啁啾度，有效的減少了制作成本；且該方法刻寫的效率較高，重復(fù)性較強(qiáng)。