一種帶寬可控的光纖光柵刻寫方法及裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201310228540.0 申請日 -
公開（公告）號 CN103308977A 公開（公告）日 2013-09-18
申請公布號 CN103308977A 申請公布日 2013-09-18
分類號 G02B6/02(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 劉偉平;葉曉平;蔣云鐘;苗圯;熊松松 申請（專利權(quán)）人 北京品傲光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京凱特來知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 北京品傲光電科技有限公司
地址 100176 北京市大興區(qū)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)科創(chuàng)十四街20號院12號樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種帶寬可控的光纖光柵刻寫方法及裝置，其中，該方法包括：對光纖進(jìn)行載氫處理，并去除其涂覆層；對激光發(fā)射器發(fā)射的預(yù)定波長的激光光束進(jìn)行整形處理，并根據(jù)整形后的激光數(shù)據(jù)調(diào)節(jié)去除涂覆層后的該光纖的曝光區(qū)域；將整形處理的激光聚焦后經(jīng)過相位掩膜板，對該光纖的曝光區(qū)域進(jìn)行刻寫，獲得光纖光柵；上述方法可通過對應(yīng)的激光發(fā)射器、曝光區(qū)域調(diào)節(jié)模塊、柱面透鏡與相位掩膜板實現(xiàn)。本發(fā)明公開的方法及裝置所刻寫的光纖光柵帶寬可不受限于刻寫紫外激光光斑尺寸和相位模板的啁啾度，有效的減少了制作成本；且該方法刻寫的效率較高，重復(fù)性較強(qiáng)。