一種帶寬可控的光纖光柵刻寫裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201320332039.4 申請日 -
公開（公告）號 CN203275699U 公開（公告）日 2013-11-06
申請公布號 CN203275699U 申請公布日 2013-11-06
分類號 G02B6/02(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 劉偉平;葉曉平;蔣云鐘;苗圯;熊松松 申請（專利權(quán)）人 北京品傲光電科技有限公司
代理機構(gòu) 北京凱特來知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 北京品傲光電科技有限公司
地址 100176 北京市大興區(qū)經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)科創(chuàng)十四街20號院12號樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種帶寬可控的光纖光柵刻寫裝置，該裝置包括：依次排列的光束整形模塊（108）、柱面透鏡（107）、相位掩膜板（106）以及設(shè)置于所述光束整形模塊（108）上方的反射鏡（112）和激光發(fā)射器（113）；其中，所述光束整形（108）包括：光束分析儀（116）、微電機調(diào)諧光闌（117）、轉(zhuǎn)動臺（110）與電位移臺（111）；所述轉(zhuǎn)動臺（110）置于所述電位移臺（111）上；所述光束分析儀（116）與微電機調(diào)諧光闌（117）順次置于所述轉(zhuǎn)動臺（110）中。本實用新型公開裝置所刻寫的光纖光柵可保證刻寫時的刻寫激光光束質(zhì)量最佳，并且其帶寬不受刻寫激光的光斑尺寸和相位模板的啁啾度的限制；另外，該裝置刻寫的效率較高，重復(fù)性較強，可有效的減少了制作成本。