一種帶寬可控的光纖光柵刻寫裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201320332039.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN203275699U 公開（公告）日 2013-11-06
申請(qǐng)公布號(hào) CN203275699U 申請(qǐng)公布日 2013-11-06
分類號(hào) G02B6/02(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 劉偉平;葉曉平;蔣云鐘;苗圯;熊松松 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京品傲光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京凱特來知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 北京品傲光電科技有限公司
地址 100176 北京市大興區(qū)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)科創(chuàng)十四街20號(hào)院12號(hào)樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種帶寬可控的光纖光柵刻寫裝置，該裝置包括：依次排列的光束整形模塊（108）、柱面透鏡（107）、相位掩膜板（106）以及設(shè)置于所述光束整形模塊（108）上方的反射鏡（112）和激光發(fā)射器（113）；其中，所述光束整形（108）包括：光束分析儀（116）、微電機(jī)調(diào)諧光闌（117）、轉(zhuǎn)動(dòng)臺(tái)（110）與電位移臺(tái)（111）；所述轉(zhuǎn)動(dòng)臺(tái)（110）置于所述電位移臺(tái)（111）上；所述光束分析儀（116）與微電機(jī)調(diào)諧光闌（117）順次置于所述轉(zhuǎn)動(dòng)臺(tái)（110）中。本實(shí)用新型公開裝置所刻寫的光纖光柵可保證刻寫時(shí)的刻寫激光光束質(zhì)量最佳，并且其帶寬不受刻寫激光的光斑尺寸和相位模板的啁啾度的限制；另外，該裝置刻寫的效率較高，重復(fù)性較強(qiáng)，可有效的減少了制作成本。