布拉格聲波反射層結(jié)構(gòu)及其制作方法和固態(tài)裝配諧振器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010858769.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112152581A | 公開(公告)日 | 2020-12-29 |
申請公布號 | CN112152581A | 申請公布日 | 2020-12-29 |
分類號 | H03H3/02(2006.01)I | 分類 | 基本電子電路; |
發(fā)明人 | 李林萍;盛荊浩;江舟 | 申請(專利權(quán))人 | 杭州星闔科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 廈門福貝知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 陳遠洋 |
地址 | 310016浙江省杭州市上城區(qū)錢江國際商務(wù)中心1416室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 公開了一種布拉格聲波反射結(jié)構(gòu)的制作方法,包括在襯底上制作由第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層依次疊加而成的反射層組;對反射層組中的第二介質(zhì)層進行離子注入以增大第二介質(zhì)層的聲阻抗。還公開了一種利用上述方法制造而成的布拉格聲波反射層結(jié)構(gòu),該布拉格反射層結(jié)構(gòu)具有平坦的反射層,以及包括該布拉格聲波反射層結(jié)構(gòu)的固態(tài)裝配諧振器,其還包括設(shè)置在布拉格聲波反射層上的底電極層、壓電層和頂電極層。該布拉格聲波反射層結(jié)構(gòu)的工藝無需使用蝕刻以及CMP工藝,成本大幅減少,利用離子注入的工藝在制備高質(zhì)量的高聲阻抗介質(zhì)反射層的同時未被注入?yún)^(qū)域因具有絕緣性抑制了寄生電容的產(chǎn)生,且能夠獲得高頻率和超高頻率的聲波諧振器的反射層。?? |
