布拉格聲波反射層結(jié)構(gòu)及其制作方法和固態(tài)裝配諧振器

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010858769.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112152581B 公開（公告）日 2022-02-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN112152581B 申請(qǐng)公布日 2022-02-08
分類號(hào) H03H3/02（2006.01）I;H03H3/04（2006.01）I;H03H9/02（2006.01）I;H03H9/17（2006.01）I 分類 基本電子電路;
發(fā)明人 李林萍;盛荊浩;江舟 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 杭州星闔科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廈門福貝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 陳遠(yuǎn)洋
地址 310016浙江省杭州市上城區(qū)錢江國(guó)際商務(wù)中心1416室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 公開了一種布拉格聲波反射結(jié)構(gòu)的制作方法，包括在襯底上制作由第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層依次疊加而成的反射層組；對(duì)反射層組中的第二介質(zhì)層進(jìn)行離子注入以增大第二介質(zhì)層的聲阻抗。還公開了一種利用上述方法制造而成的布拉格聲波反射層結(jié)構(gòu)，該布拉格反射層結(jié)構(gòu)具有平坦的反射層，以及包括該布拉格聲波反射層結(jié)構(gòu)的固態(tài)裝配諧振器，其還包括設(shè)置在布拉格聲波反射層上的底電極層、壓電層和頂電極層。該布拉格聲波反射層結(jié)構(gòu)的工藝無(wú)需使用蝕刻以及CMP工藝，成本大幅減少，利用離子注入的工藝在制備高質(zhì)量的高聲阻抗介質(zhì)反射層的同時(shí)未被注入?yún)^(qū)域因具有絕緣性抑制了寄生電容的產(chǎn)生，且能夠獲得高頻率和超高頻率的聲波諧振器的反射層。