一種濺射鍍膜機(jī)的輔助冷卻系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201921428056.1 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN210620927U 公開(kāi)（公告）日 2020-05-26
申請(qǐng)公布號(hào) CN210620927U 申請(qǐng)公布日 2020-05-26
分類號(hào) C23C14/34;C23C14/54 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 唐志強(qiáng);姜鈞 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 承德奧斯力特電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京方韜法業(yè)專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 承德奧斯力特電子科技有限公司
地址 067000 河北省承德市平泉市平泉鎮(zhèn)四合園村17組
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種濺射鍍膜機(jī)的輔助冷卻系統(tǒng)，包括依次通過(guò)管道連接的儲(chǔ)氣罐、制冷裝置、電磁閥、流量調(diào)節(jié)閥和濺射輔助室，濺射輔助室設(shè)置在濺射真空室內(nèi)的基片運(yùn)行軌道上，且至少位于第一濺射室的后方。還包括設(shè)置在濺射輔助室內(nèi)的溫度傳感器，和與溫度傳感器、電磁閥和流量調(diào)節(jié)閥連接的控制器。輔助冷卻系統(tǒng)包括兩個(gè)以上的濺射輔助室，兩個(gè)以上的濺射輔助室間隔設(shè)置在多個(gè)濺射室之間。本實(shí)用新型能實(shí)現(xiàn)對(duì)濺射鍍膜過(guò)程中基片溫度的降低，防止基片溫度太高導(dǎo)致的氧化或變色現(xiàn)象的發(fā)生，提高濺射鍍膜產(chǎn)品的外觀。還通過(guò)多個(gè)濺射輔助室的設(shè)置，實(shí)現(xiàn)對(duì)需要多次濺射鍍膜基片的多次冷卻，能更好的控制濺射鍍膜基片的溫度，保證濺射鍍膜基片的質(zhì)量。