低電容單向瞬態(tài)電壓抑制器
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201310299076.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN103413807B | 公開(kāi)(公告)日 | 2015-11-25 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN103413807B | 申請(qǐng)公布日 | 2015-11-25 |
分類(lèi)號(hào) | H01L27/02(2006.01)I;H01L27/06(2006.01)I;H01L21/8222(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 趙杰;翟東媛;趙毅 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 紹興米來(lái)電子科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京瑞弘專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 陳建和 |
地址 | 213164 江蘇省常州市常武中路801號(hào)常州科教城科教會(huì)堂南樓2309室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種單向低電容瞬態(tài)電壓抑制器及其制作工藝,其中該抑制器包括P+半導(dǎo)體襯底,位于P+襯底上的P-外延層,所述的P-外延層上從左到右依次設(shè)有第一N阱,第一P+有源注入?yún)^(qū),第二N阱,第一P阱;所述的第一N阱和第二N阱上分別設(shè)有第一N+有源注入?yún)^(qū)和第二N+有源注入?yún)^(qū);所述的第一P阱上設(shè)有第一N-有源注入?yún)^(qū)和第二P+有源注入?yún)^(qū);所述的第一N-有源注入?yún)^(qū)上設(shè)有第三P+有源注入?yún)^(qū);所述的第二N+和第三P+有源注入?yún)^(qū)、第一N+第一P+及第二P+有源注入?yún)^(qū)分別通過(guò)金屬連接并引出。本發(fā)明的技術(shù)方案可在被保護(hù)器件的正常工作電壓下,不會(huì)影響數(shù)據(jù)的高速傳送,保證了大電流的泄放能力,而且具有更好地電流泄放能力。 |
