一種晶圓拋光裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110858647.8 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113427373A 公開（公告）日 2021-09-24
申請(qǐng)公布號(hào) CN113427373A 申請(qǐng)公布日 2021-09-24
分類號(hào) B24B27/00（2006.01）I;B24B29/02（2006.01）I;B24B47/12（2006.01）I;B24B47/16（2006.01）I;B24B47/20（2006.01）I;B24B53/007（2006.01）I;B24B55/06（2006.01）I;B24B55/12（2006.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 賀賢漢;佐藤泰幸;原英樹;杉原一男 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海申和熱磁電子有限公司
代理機(jī)構(gòu) 銅陵市天成專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 李坤
地址 201900上海市寶山區(qū)寶山城市工業(yè)園區(qū)山連路181號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了存儲(chǔ)器件生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域的一種晶圓拋光裝置，該發(fā)明中通過設(shè)置中空連接桿、復(fù)位彈簧、擠壓板、扭簧和清理板，當(dāng)中空連接板繼續(xù)向右轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，拋光盤與清理板接觸，并在拋光盤橫向擠壓的作用，使清理板向右轉(zhuǎn)動(dòng)，對(duì)晶圓表面進(jìn)行率先清理，保證晶圓表面的整潔，避免晶圓表面留有廢料，提高拋光精度，同時(shí)拋光盤開始對(duì)晶圓表面進(jìn)行拋光，推動(dòng)板沿著擠壓板底端的平行面運(yùn)動(dòng)，保證拋光的穩(wěn)定性，當(dāng)結(jié)束對(duì)晶圓表面進(jìn)行拋光后，在復(fù)位彈簧的作用下，拋光盤向上運(yùn)動(dòng)，脫離晶圓表面，同時(shí)在扭簧的作用下，清理板復(fù)位并作用在拋光后的晶圓表面，對(duì)其表面進(jìn)行清理，保證晶圓表面的整潔，為下次拋光做準(zhǔn)備，提高拋光精度。