卷對(duì)卷立式磁控鍍膜裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201310196343.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN103290385B 公開(kāi)（公告）日 2015-07-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN103290385B 申請(qǐng)公布日 2015-07-22
分類號(hào) C23C14/56(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 謝建軍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳市生波爾機(jī)電設(shè)備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市世紀(jì)恒程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 代理人 深圳市生波爾機(jī)電設(shè)備有限公司;廣東生波爾光電技術(shù)有限公司
地址 518000 廣東省深圳市坪山新區(qū)深圳出口加工區(qū)2號(hào)路達(dá)新小區(qū)A棟廠房第一層西
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 發(fā)明公開(kāi)了一種卷對(duì)卷立式磁控鍍膜裝置，包括：鍍膜室，鍍膜室的一端連接設(shè)有一放卷室，放卷室內(nèi)設(shè)有輥軸為豎直方向設(shè)置的放卷輥和導(dǎo)向輥；鍍膜室的另一端連接設(shè)有一收卷室，收卷室設(shè)有輥軸為豎直方向設(shè)置的收卷輥和第一導(dǎo)向輥；鍍膜室的側(cè)壁上設(shè)置有磁控濺射靶，磁控濺射靶的靶面為豎直方向設(shè)置，并與柔性基片所在面平行；放卷室與鍍膜室、鍍膜室與收卷室間分別設(shè)有通過(guò)柔性基片的狹縫；放卷室、鍍膜室、收卷室分別設(shè)有獨(dú)立的抽氣系統(tǒng)。本發(fā)明所提供的裝置，可防止雜質(zhì)氣體污染鍍膜室，以保證膜層不受雜質(zhì)污染；同時(shí)可防止室體內(nèi)產(chǎn)生的細(xì)小粉塵及顆粒落入柔性基片表面和磁控濺射靶的靶面上，避免了膜層出現(xiàn)針孔現(xiàn)象，保證了膜層的質(zhì)量。