一種氧化鈰顆粒在拋光工藝中的應(yīng)用

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110004107.3 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN112680115A 公開(公告)日 2021-04-20
申請(qǐng)公布號(hào) CN112680115A 申請(qǐng)公布日 2021-04-20
分類號(hào) C09G1/02(2006.01)I;B24B1/00(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I 分類 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 王溯;蔣闖;馬麗;張德賀;章玲然;孫濤;秦長(zhǎng)春;寇浩東 申請(qǐng)(專利權(quán))人 上海暉研材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海弼興律師事務(wù)所 代理人 王衛(wèi)彬;何敏清
地址 201616上海市松江區(qū)思賢路3600號(hào)2幢4樓2409室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種氧化鈰顆粒在拋光工藝中的應(yīng)用。所述氧化鈰顆粒在拋光工藝中作為拋光漿料的拋光粒子;所述氧化鈰顆粒的前驅(qū)體材料的第一顆粒尺寸為200?500μm;所述氧化鈰顆粒的拉曼光譜包含在458cm?1處的峰和583cm?1處的峰,且其中在458cm?1處的峰的強(qiáng)度與在583cm?1處的峰的強(qiáng)度的比率為峰比率,所述氧化鈰顆粒的峰比率為70?90。本發(fā)明通過(guò)控制氧化鈰顆粒的顆粒峰比率、氧化鈰顆粒的前驅(qū)體材料的顆粒尺寸在一定范圍內(nèi),使得應(yīng)用于STI的CMP制程時(shí),具有優(yōu)良的移除速率和選擇性,且具有不引起微劃痕或使微劃痕數(shù)量最小化的能力。??