一種氧化鈰顆粒的制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110004090.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112758974A | 公開(公告)日 | 2021-05-07 |
申請公布號 | CN112758974A | 申請公布日 | 2021-05-07 |
分類號 | B82Y40/00(2011.01)I;C01F17/235(2020.01)I;C09K3/14(2006.01)I | 分類 | 無機化學(xué); |
發(fā)明人 | 王溯;馬麗;蔣闖;孫濤;章玲然;秦長春;張德賀;寇浩東 | 申請(專利權(quán))人 | 上海暉研材料科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海弼興律師事務(wù)所 | 代理人 | 王衛(wèi)彬;何敏清 |
地址 | 201616上海市松江區(qū)思賢路3600號2幢4樓2409室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種氧化鈰顆粒的制備方法,其包括以下步驟:氧化鈰顆粒的前驅(qū)體材料經(jīng)固體生成步驟制得二氧化鈰粉末,將所述二氧化鈰粉末與水混合,研磨,得含所述氧化鈰顆粒的漿料;所述氧化鈰顆粒的前驅(qū)體材料的第一顆粒尺寸為200?500μm;所述氧化鈰顆粒的拉曼光譜包含在458cm?1處的峰和583cm?1處的峰,且其中在458cm?1處的峰的強度與在583cm?1處的峰的強度的比率為峰比率,所述氧化鈰顆粒的峰比率為70?90。本發(fā)明通過控制氧化鈰顆粒的顆粒峰比率、氧化鈰顆粒的前驅(qū)體材料的顆粒尺寸在一定范圍內(nèi),使得應(yīng)用于STI的CMP制程時,具有優(yōu)良的移除速率和選擇性,且具有不引起微劃痕或使微劃痕數(shù)量最小化的能力。?? |
