一種真空鍍膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022553967.6 申請日 -
公開（公告）號 CN213507180U 公開（公告）日 2021-06-22
申請公布號 CN213507180U 申請公布日 2021-06-22
分類號 C23C14/50（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李健;孫宏宇;鄧天容 申請（專利權）人 江西華派光電科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 341800江西省贛州市全南縣工業(yè)園二區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及真空鍍膜技術領域，公開了一種真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜腔和鍍膜腔蓋，真空鍍膜腔底部設有蒸發(fā)源，所述鍍膜腔蓋位于真空鍍膜腔上方，鍍膜腔蓋底部安裝有基片載架夾持裝置，鍍膜腔蓋的左側(cè)固定在支撐板上，支撐板的下方連接著第一升降機構(gòu)，支撐板的上方設有電機支架，電機支架上安裝著轉(zhuǎn)動電機，轉(zhuǎn)動電機輸出軸連接到鍍膜腔蓋。本實用新型的目的在于提供一種真空鍍膜裝置，用于提高真空鍍膜效率，節(jié)約人力成本。