一種真空鍍膜用基片支架

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022559118.1 申請日 -
公開（公告）號 CN213507182U 公開（公告）日 2021-06-22
申請公布號 CN213507182U 申請公布日 2021-06-22
分類號 C23C14/50（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李健;孫宏宇;鄧天容 申請（專利權(quán)）人 江西華派光電科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 341800江西省贛州市全南縣工業(yè)園二區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種真空鍍膜用基片支架，包括左右兩側(cè)的兩個支架，支架的前后兩側(cè)通過活動橫梁相連接，支架的前后兩側(cè)開設(shè)有T型槽，T型槽內(nèi)設(shè)有螺母，活動橫梁的兩端通過固定螺釘連接到螺母，支架的頂部前后兩端安裝有固定橫梁，固定橫梁之間安裝有若干掛板，掛板上安裝有基片載板，基片載板可繞掛板轉(zhuǎn)動，基片載板的另一端安裝有限位軸，限位軸的兩端靠在活動橫梁上。本實用新型的目的在于提供一種真空鍍膜用基片支架，用于固定基片并實現(xiàn)對基片傾斜角度進行靈活調(diào)節(jié)，其結(jié)構(gòu)簡單、成本低、易安裝。