在基材表面制備微納結(jié)構(gòu)的方法和表面具有微納結(jié)構(gòu)的基材及其應用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111195108.7 申請日 -
公開（公告）號 CN114100998A 公開（公告）日 2022-03-01
申請公布號 CN114100998A 申請公布日 2022-03-01
分類號 B05D5/00（2006.01）I;B05D5/08（2006.01）I;B05D3/06（2006.01）I;B05D3/14（2006.01）I 分類 一般噴射或霧化；對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 李可峰 申請（專利權(quán)）人 維達力科技股份有限公司
代理機構(gòu) 華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 代理人 黎金娣
地址 437300湖北省咸寧市赤壁市經(jīng)濟開發(fā)區(qū)中伙光谷產(chǎn)業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種在基材表面制備微納結(jié)構(gòu)的方法和表面具有微納結(jié)構(gòu)的基材及其應用。包括如下步驟：提供基材和具有微納米尺寸的三維立體結(jié)構(gòu)的微納紋理模板；在所述基材上施加轉(zhuǎn)印UV膠；通過UV轉(zhuǎn)印將所述微納紋理模板施加在所述轉(zhuǎn)印UV膠上，再通過UV固化制備過渡膠層，移除所述微納紋理模板，制備中間體；采用蝕刻等離子源對所述中間體進行等離子蝕刻，以去除所述基材表面需要蝕刻區(qū)域的過渡膠層，并在所述基材的表面蝕刻出具有微納米尺寸的三維立體結(jié)構(gòu)。該方法操作簡易、微納結(jié)構(gòu)形貌可控、低成本、長效、可大批量應用的優(yōu)點。另外，還可以減少曝光顯影的使用，節(jié)省設備成本和制作成本。