高透過(guò)、低反射的功能部件及其制備方法和應(yīng)用
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111195124.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN114114727A | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-03-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114114727A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-01 |
| 分類(lèi)號(hào) | G02F1/13（2006.01）I;C03C15/00（2006.01）I;C03C21/00（2006.01）I;C03C17/34（2006.01）I | 分類(lèi) | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 李可峰 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 維達(dá)力科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 華進(jìn)聯(lián)合專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 黎金娣 |
| 地址 | 437300湖北省咸寧市赤壁市經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)中伙光谷產(chǎn)業(yè)園 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種高透過(guò)、低反射的功能部件及其制備方法應(yīng)用。該功能部件的制備方法包括如下步驟：提供基材和具有微納米尺寸的三維立體結(jié)構(gòu)的微納紋理模板；在基材上施加轉(zhuǎn)印UV膠；將微納紋理模板施加在轉(zhuǎn)印UV膠上，再通過(guò)UV固化制備過(guò)渡膠層，移除微納紋理模板，制備中間體；采用蝕刻等離子源對(duì)中間體進(jìn)行等離子蝕刻，以去除基材表面需要蝕刻區(qū)域的過(guò)渡膠層，并在基材的表面蝕刻出微納結(jié)構(gòu)；采用射率為1.0～2.0的材料在具有微納米尺寸的三維立體結(jié)構(gòu)的基材的表面上制備減反射增透鍍層。該方法具有操作簡(jiǎn)易、微納結(jié)構(gòu)形貌可控、低成本、長(zhǎng)效、可大批量應(yīng)用的優(yōu)點(diǎn)，制得的功能部件具有高透過(guò)、低反射的優(yōu)勢(shì)，具有廣闊的應(yīng)用前景。 |
