采用連續(xù)多弧離子鍍物理氣相沉積法制備鈹銅合金薄板的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201210552521.9 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN103014634B 公開(kāi)（公告）日 2014-07-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN103014634B 申請(qǐng)公布日 2014-07-09
分類(lèi)號(hào) C23C14/32(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 范多進(jìn);田廣科;范多旺;陳虎;孔令剛;馬海林;孫勇 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 蘭州交大國(guó)家綠色鍍膜工程中心有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 蘭州振華專(zhuān)利代理有限責(zé)任公司 代理人 張真
地址 730070 甘肅省蘭州市城關(guān)區(qū)張?zhí)K灘575號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種制備鈹銅合金薄板的方法，更特別地說(shuō)，是指一采用連續(xù)多弧離子鍍物理氣相沉積法制備高質(zhì)量的鈹銅合金薄板的方法。一種采用連續(xù)多弧離子鍍物理氣相沉積制備鈹銅合金薄板的方法，是以純Be金屬靶或高鈹含量鈹銅合金靶為陰極，以純銅帶為陽(yáng)極，采用多弧離子鍍物理氣相沉積法在純銅帶單面或雙面沉積結(jié)合良好的純Be或富Be膜；然后進(jìn)行高溫?cái)U(kuò)散處理，使Be原子向內(nèi)擴(kuò)散滲入純銅基體，直到銅帶中的含Be量達(dá)到1～3wt.%，獲得具有優(yōu)異機(jī)械性能和導(dǎo)電性能的Cu–1～3wt.%Be合金帶材。本發(fā)明方法簡(jiǎn)單易行，工作效率高，制備過(guò)程節(jié)能環(huán)保，質(zhì)量可控，極其適合工業(yè)化應(yīng)用。