一種可用于高導熱氮化鋁基板的紅外光源

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921576235.X 申請日 -
公開（公告）號 CN211010868U 公開（公告）日 2020-07-14
申請公布號 CN211010868U 申請公布日 2020-07-14
分類號 F21S2/00(2016.01)I 分類 -
發(fā)明人 李少飛 申請（專利權）人 廣東省旭晟半導體股份有限公司
代理機構 深圳市深聯(lián)知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 深圳市旭晟半導體股份有限公司
地址 518000廣東省深圳市光明新區(qū)公明街道河堤路20號冠城低碳產業(yè)園E棟1樓A區(qū)、8樓、9樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及紅外光源技術領域，尤其為一種可用于高導熱氮化鋁基板的紅外光源，包括包括氮化鋁基板，所述氮化鋁基板的上下兩側均設有散熱片，且氮化鋁基板上設有若干紅外光源，上下兩個所述散熱片通過固定機構固定在氮化鋁基板上，所述散熱片的表面設有若干組用于插接紅外光源上的極柱的極柱槽，每組極柱槽均設有相互對稱的兩個，且每組極柱槽的周圍均設有若干散熱孔。本實用新型通過固定機構的設置可實現(xiàn)在氮化鋁基板上固定設置散熱片，從而保證氮化鋁基板在工作時的高導熱性和散熱性。??