填充材料及制備方法、高頻信號傳輸用電解銅箔制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110565990.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113337855A | 公開(公告)日 | 2021-09-03 |
申請公布號 | CN113337855A | 申請公布日 | 2021-09-03 |
分類號 | C25D1/04(2006.01)I;H05K1/02(2006.01)I;H04B3/02(2006.01)I | 分類 | 電解或電泳工藝;其所用設(shè)備〔4〕; |
發(fā)明人 | 陳智棟;曹乾瑩;王文昌;吳敏賢;明小強;王朋舉 | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇銘豐電子材料科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 常州市權(quán)航專利代理有限公司 | 代理人 | 張佳文 |
地址 | 213164江蘇省常州市武進區(qū)湖塘鎮(zhèn)滆湖中路21號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明屬于添加劑分解產(chǎn)物技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種填充材料及制備方法、高頻信號傳輸用電解銅箔的制備方法。本填充材料包括:FeCl3·6H2O:3g;印跡分子:0.15?3g;DMF:60g;BDC:1g;PC:6?30g。本填充材料的制備方法包括:將FeCl3·6H2O和印跡分子溶于水中形成反應(yīng)溶液;反應(yīng)溶液中加入DMF攪拌溶解;反應(yīng)溶液中加入BDC攪拌溶解;PC浸漬于反應(yīng)溶液中攪拌;水熱法處理反應(yīng)溶液,去除添加劑分解產(chǎn)物分子,制備印跡有添加劑分解產(chǎn)物分子鑄型結(jié)構(gòu)的填充材料。本發(fā)明可有效對添加劑分解產(chǎn)物選擇性吸附,達到有效去除添加劑分解產(chǎn)物、使銅的電沉積薄膜中不混入分解產(chǎn)物、實現(xiàn)電流在陰極和陽極上均勻分布、提高品質(zhì)、制備高頻信號傳輸用電解銅箔的效果。 |
