一種改善光刻膠與晶圓粘附性的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110048723.9 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN112698553A 公開(kāi)(公告)日 2021-04-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN112698553A 申請(qǐng)公布日 2021-04-23
分類(lèi)號(hào) G03F7/38;G03F7/40;G03F7/30;G03F7/20;G03F7/16;H01L21/027 分類(lèi) 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類(lèi)似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 馬陽(yáng)陽(yáng);張東宏;李寶軍 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 陜西彩虹新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京卓特專(zhuān)利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 段宇
地址 712021 陜西省咸陽(yáng)市秦都區(qū)彩虹二路
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種改善光刻膠與晶圓粘附性的方法,其特征在于:包括對(duì)超純水清洗后晶圓進(jìn)行預(yù)烘烤,對(duì)光刻膠樣品進(jìn)行水浴放置以及在涂覆光刻膠前,設(shè)定程序預(yù)先手動(dòng)噴霧光刻膠對(duì)應(yīng)的溶劑溶液,然后吸取一定量光刻膠對(duì)烘烤后的晶圓進(jìn)行涂覆;對(duì)涂覆有光刻膠的晶圓進(jìn)行曝光處理;對(duì)曝光后的晶圓進(jìn)行曝光后烘烤;對(duì)曝光后烘烤的晶圓進(jìn)行室溫冷卻處理;最后對(duì)晶圓進(jìn)行顯影。本發(fā)明提供的改善光刻膠與晶圓粘附性的方法中,首先對(duì)晶圓進(jìn)行預(yù)烘烤,使得晶圓表面能由親水變?yōu)槭杷?,增加光刻膠與晶圓的粘附性。