真空吸附平臺

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121112809.5 申請日 -
公開（公告）號 CN215588829U 公開（公告）日 2022-01-21
申請公布號 CN215588829U 申請公布日 2022-01-21
分類號 B24B41/06（2012.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 呂金峰;潘燦彬;劉基;潘連興 申請（專利權(quán)）人 萬載南極光電子科技有限公司
代理機構(gòu) 深圳市恒程創(chuàng)新知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 孔德丞
地址 336000江西省宜春市萬載縣工業(yè)園區(qū)光明路以東、望江路以西
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開一種真空吸附平臺。所述真空吸附平臺包括平臺本體，所述平臺本體設(shè)置有吸附面，所述吸附面設(shè)有多個吸附孔；多個所述吸附孔包括設(shè)置在所述吸附面的周邊的第一吸附孔，以及設(shè)置于所述吸附面的中部的第二吸附孔。本實用新型的真空吸附平臺，能夠降低導(dǎo)光板被刮花的概率。