真空吸附平臺

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121112857.4 申請日 -
公開（公告）號 CN215036512U 公開（公告）日 2021-12-07
申請公布號 CN215036512U 申請公布日 2021-12-07
分類號 B24B41/06（2012.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 呂金峰;潘燦彬;劉基;潘連興 申請（專利權(quán)）人 萬載南極光電子科技有限公司
代理機構(gòu) 深圳市恒程創(chuàng)新知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 孔德丞
地址 336000江西省宜春市萬載縣工業(yè)園區(qū)光明路以東、望江路以西
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開一種真空吸附平臺。所述真空吸附平臺包括平臺本體，所述平臺本體設(shè)有吸附面，所述吸附面設(shè)置有吸附孔和通氣孔；其中，所述吸附孔用于與真空發(fā)生裝置連接；所述平臺本體在其異于所述吸附面的表面還設(shè)置有泄氣孔，所述泄氣孔用于將所述通氣孔與大氣環(huán)境連通。本實用新型的真空吸附平臺，能夠便于轉(zhuǎn)移導(dǎo)光板。