流量可控的高活性硒或硫裂解氣的產(chǎn)生裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201720788079.8 申請日 -
公開（公告）號 CN207002837U 公開（公告）日 2018-02-13
申請公布號 CN207002837U 申請公布日 2018-02-13
分類號 C23C14/58;C23C14/06 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 孫云;李光旻;劉瑋;林舒平;周志強;張毅 申請（專利權(quán)）人 安徽恒致銅銦鎵硒技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 蚌埠鼎力專利商標事務所有限公司 代理人 張建宏;王玲霞
地址 233030 安徽省蚌埠市湯和路268號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 流量可控的高活性硒或硫裂解氣的產(chǎn)生裝置，包括蒸發(fā)器、裂解筒和節(jié)流片，蒸發(fā)器采用內(nèi)加熱式，利用熱輻射器對硒或硫表面進行輻射加熱，使固體硒或硫熔化成液態(tài)，并在5～10KPa的壓強下蒸發(fā)出硒蒸汽或硫蒸汽，經(jīng)過節(jié)流片上的節(jié)流孔進入裂解筒裂解為小分子硒或硫裂解氣，用于制備硒化物半導體材料或硫化物半導體材料。本實用新型的產(chǎn)生裝置能夠?qū)⒐虘B(tài)硒或硫轉(zhuǎn)化為汽態(tài)，經(jīng)高溫熱裂解獲得高活性硒或硫裂解氣，并可抵抗周邊溫度的影響，使裂解氣流量得到有效控制，能為硒化或硫化系統(tǒng)或蒸發(fā)系統(tǒng)提供高活性硒或硫裂解氣。