獨立箱式蒸發(fā)源裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201621180173.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN206109524U | 公開(公告)日 | 2017-04-19 |
申請公布號 | CN206109524U | 申請公布日 | 2017-04-19 |
分類號 | C23C14/24(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 甄永泰;孫嵩泉;楊陸晗;李志超 | 申請(專利權(quán))人 | 安徽恒致銅銦鎵硒技術(shù)有限公司 |
代理機構(gòu) | 蚌埠鼎力專利商標事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 張建宏 |
地址 | 233030 安徽省蚌埠市湯和路268號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型給出了一種獨立箱式蒸發(fā)源裝置,包括至少一個蒸發(fā)源和加熱托板,還包括箱體,所述蒸發(fā)源和加熱托板都設(shè)置在箱體內(nèi),所述蒸發(fā)源對準加熱托板,箱體內(nèi)壁兩側(cè)對應(yīng)加熱托板位置開有進料孔和出料孔,基底工件依次經(jīng)過進料孔、加熱托板和出料孔構(gòu)成供基底工件經(jīng)過的傳送通道,箱體內(nèi)壁上還開有排氣孔。本獨立箱式蒸發(fā)源裝置可非常方便地進行蒸發(fā)源的更換、原物料的填充、以及真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備中包括蒸發(fā)源在內(nèi)的設(shè)備各個部件的維護保養(yǎng),極大提高了設(shè)備利用率;同時,能夠減少硒對真空室及相關(guān)金屬部件的腐蝕,非常適合于大規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用,有助于銅銦鎵硒薄膜太陽能電池制造成本的降低。 |
