獨立箱式蒸發(fā)源裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610963961.1 申請日 -
公開（公告）號 CN106435482A 公開（公告）日 2017-02-22
申請公布號 CN106435482A 申請公布日 2017-02-22
分類號 C23C14/24(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 甄永泰;孫嵩泉;楊陸晗;李志超 申請（專利權）人 安徽恒致銅銦鎵硒技術有限公司
代理機構 蚌埠鼎力專利商標事務所有限公司 代理人 張建宏
地址 233030 安徽省蚌埠市湯和路268號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明給出了一種獨立箱式蒸發(fā)源裝置，包括至少一個蒸發(fā)源和加熱托板，還包括箱體，所述蒸發(fā)源和加熱托板都設置在箱體內，所述蒸發(fā)源對準加熱托板，箱體內壁兩側對應加熱托板位置開有進料孔和出料孔，基底工件依次經過進料孔、加熱托板和出料孔構成供基底工件經過的傳送通道，箱體內壁上還開有排氣孔。本獨立箱式蒸發(fā)源裝置可非常方便地進行蒸發(fā)源的更換、原物料的填充、以及真空蒸發(fā)鍍膜設備中包括蒸發(fā)源在內的設備各個部件的維護保養(yǎng)，極大提高了設備利用率；同時，能夠減少硒對真空室及相關金屬部件的腐蝕，非常適合于大規(guī)模生產的應用，有助于銅銦鎵硒薄膜太陽能電池制造成本的降低。