一種硅片的清洗槽
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201910748963.2 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112387692A | 公開（公告）日 | 2021-02-23 |
| 申請公布號 | CN112387692A | 申請公布日 | 2021-02-23 |
| 分類號 | B08B3/12(2006.01)I; | 分類 | 清潔; |
| 發(fā)明人 | 劉愛軍;曹丙強(qiáng);莊艷歆;周浪 | 申請（專利權(quán)）人 | 江蘇金暉光伏有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 揚(yáng)州潤中專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 張琳 |
| 地址 | 225600江蘇省揚(yáng)州市高郵市城南經(jīng)濟(jì)新區(qū)興區(qū)路90號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種硅片的清洗槽，涉及硅片生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種硅片的清洗槽，包括槽體，所述槽體的頂部固定安裝有超聲波發(fā)生器，所述槽體的右側(cè)固定連接有排液口，所述排液口的頂部固定安裝有控制閥，所述槽體的內(nèi)部固定連接有擋板，所述擋板的頂部放置有硅片放置板，所述硅片放置板的頂部設(shè)置有卡槽，所述硅片放置板頂部的右側(cè)固定連接有側(cè)板。該硅片的清洗槽，通過設(shè)置高壓噴頭使清洗液形成高壓水流對硅片進(jìn)行沖洗，能夠有效地取出硅片表面的附著物，當(dāng)沖洗的清洗漫過硅片的頂部時(shí)，通過超聲波發(fā)生器產(chǎn)生的超聲波使清洗液震動，對硅片進(jìn)行二次的清洗，提高了硅片的清洗效率。?? |
