晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011339073.5 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN112466787A | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-03-09 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112466787A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-09 |
分類號(hào) | H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 葉瑩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海果納半導(dǎo)體技術(shù)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海盈盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 孫佳胤;高德志 |
地址 | 201306上海市浦東新區(qū)南匯新城鎮(zhèn)環(huán)湖西二路888號(hào)C樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備,包括:晶圓載臺(tái),用于固定待檢測(cè)晶圓;浸潤(rùn)液體提供模塊,用于提供浸潤(rùn)液體,以將晶圓載臺(tái)上的待檢測(cè)晶圓浸沒(méi)在浸潤(rùn)液體中,所述浸潤(rùn)液體的折射率大于空氣的折射率;圖像獲取模塊,所述圖像獲取模塊包括攝像頭陣列,所述圖像獲取模塊通過(guò)攝像頭陣列一次拍攝獲得待檢測(cè)晶圓整個(gè)表面對(duì)應(yīng)的檢測(cè)圖像,且進(jìn)行拍攝時(shí)所述攝像頭陣列至少有部分浸沒(méi)在浸潤(rùn)液體中;缺陷判斷模塊,所述缺陷判斷模塊根據(jù)所述圖像獲取模塊獲得的檢測(cè)圖像,判斷所述待檢測(cè)晶圓的表面是否存在缺陷。本發(fā)明的晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備提高了缺陷檢測(cè)精度。?? |
