一種高亮度無色差鐳射膜的制作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011275365.7 申請日 -
公開(公告)號 CN112080767A 公開(公告)日 2020-12-15
申請公布號 CN112080767A 申請公布日 2020-12-15
分類號 C25D1/00(2006.01)I 分類 電解或電泳工藝;其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 黃昭利;李世威;鄧莎;楊小利 申請(專利權(quán))人 湖南和銳鐳射科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 長沙市護(hù)航專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 代理人 謝新苗
地址 410100湖南省長沙市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)南二路17號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明具體公開了一種高亮度無色差鐳射膜的制作方法,所述方法包括以下步驟:S1、通過高亮度無色差的鐳射母版對基板進(jìn)行電鑄,獲取高亮度無色差的鐳射工作版;S2、通過所述鐳射工作版對厚度均勻且張力穩(wěn)定的基膜進(jìn)行涂布,并確?;け砻娴蔫D射涂料涂布均勻,得到涂布膜;S3、選用版輥、壓輥和機(jī)臺對涂布膜進(jìn)行模壓處理;S4、對步驟S3中經(jīng)過模壓處理后的涂布膜鍍鋁,并根據(jù)涂布膜的耐溫調(diào)整鍍鋁的厚度,從而得到高亮度無色差的鐳射膜。本發(fā)明中鐳射膜的制作方法所生產(chǎn)的鐳射工作版和鐳射膜無色差、亮度高且厚度均勻,大大降低了后面工序中上色和調(diào)色的難度,能夠滿足高標(biāo)準(zhǔn)要求的客戶,提升了公司的市場競爭力。??