一種真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011275219.4 申請日 -
公開（公告）號 CN112458426B 公開（公告）日 2022-07-08
申請公布號 CN112458426B 申請公布日 2022-07-08
分類號 C23C14/56（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 彭壽;蔣洋;官敏;宋曉貞;王偉;張少波;樊黎虎;馬迎;鐘汝梅;周道鈞 申請（專利權(quán)）人 凱盛科技集團(tuán)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 昆明合眾智信知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 代理人 -
地址 471000 河南省洛陽市伊濱區(qū)蘭臺路39號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置，包括U型板、套筒和伸出筒，所述轉(zhuǎn)動齒輪一固定連接有螺紋絲桿，所述螺紋絲桿依次活動穿過伸出槽、動力槽、螺紋槽，且螺紋絲桿活動伸入壓氣槽中，所述伸出筒外側(cè)設(shè)置有與套筒配合的內(nèi)螺紋，所述伸出筒內(nèi)固定設(shè)置有彈性氣囊，伸出卡槽的部分所述彈性氣囊固定連接有清理塊一，所述卡槽中活動設(shè)置有止氣桿，且止氣桿卡住彈性氣囊，所述伸出筒側(cè)壁固定連接有清理塊二，所述轉(zhuǎn)動齒輪二與轉(zhuǎn)動齒輪一嚙合連接，本發(fā)明在使用中，通過清理塊一和清理塊二對通道擋板內(nèi)部和下方的濺射殘渣進(jìn)行清理，實(shí)現(xiàn)對濺射殘渣的全面清理，并通過U型板對清理后的濺射殘渣進(jìn)行收集，防止二次污染。