一種用于ITO導(dǎo)電薄膜的高精細(xì)蝕刻液及其制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201610860973.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN106479505B | 公開(kāi)（公告）日 | 2018-09-28 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN106479505B | 申請(qǐng)公布日 | 2018-09-28 |
| 分類(lèi)號(hào) | C09K13/06 | 分類(lèi) | 染料；涂料；拋光劑；天然樹(shù)脂；黏合劑；其他類(lèi)目不包含的組合物；其他類(lèi)目不包含的材料的應(yīng)用; |
| 發(fā)明人 | 胡濤;劉志彪;陳虹飛;邢攸美;尹云艦 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 杭州格林達(dá)電子材料股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 杭州賽科專(zhuān)利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 杭州格林達(dá)電子材料股份有限公司 |
| 地址 | 310000 浙江省杭州市蕭山區(qū)杭州蕭山臨江工業(yè)園區(qū)紅十五路9936號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 一種用于ITO導(dǎo)電薄膜的高精細(xì)蝕刻液及其制備方法，重量百分比組成如下：硝酸2～8％，硫酸2～12％，添加劑0.01～2％，余量水，所述添加劑為堿金屬鹽和有機(jī)物的混合物，有機(jī)物選用硫脲衍生物、六次甲基四胺、咪唑、苯并三氮唑和2,4,6?三羥基苯甲酸中的任意一種。本發(fā)明的蝕刻液以硝酸和硫酸為主要成分，工藝簡(jiǎn)單，酸濃度適中，對(duì)ITO導(dǎo)電薄膜具有優(yōu)異的蝕刻性能，蝕刻速率適中，蝕刻精度高無(wú)殘留，能夠滿足不同厚度ITO的蝕刻要求。同時(shí)采用一種堿金屬鹽和一種有機(jī)物作為添加劑，對(duì)下層金屬Al或者M(jìn)o都具有優(yōu)異的抗蝕效果，能夠很好的滿足技術(shù)工藝和制程要求。另外，該蝕刻液以低成本硫酸為原料，在滿足技術(shù)工藝和制程要求的基礎(chǔ)上有利于降低蝕刻液的成本。 |
