一種適用于光刻工藝銅制程的無氟酸性刻蝕液及配制方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910309436.1 申請日 -
公開（公告）號 CN110105956A 公開（公告）日 2019-08-09
申請公布號 CN110105956A 申請公布日 2019-08-09
分類號 C09K13/04;C09K13/06;H01L21/306 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 李瀟逸;邢攸美;方偉華;尹云艦;李歡;洪明衛(wèi) 申請（專利權(quán)）人 杭州格林達(dá)電子材料股份有限公司
代理機構(gòu) 北京志霖恒遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 杭州格林達(dá)電子材料股份有限公司
地址 311228 浙江省杭州市蕭山區(qū)紅十五路9936號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種適用于光刻工藝銅制程的無氟酸性刻蝕液及配制方法，其特征在于，包括1?20％重量份的無機酸，5?25％重量份的過氧化氫，0.1?5％重量份的環(huán)狀胺類化合物，0.1?10％重量份的氨基酸類化合物，1?5％重量份的無機磷酸鹽類及剩余組分的純水，上述各組分重量份總和為100％重量份。本發(fā)明所配制適用于光刻工藝銅制程的無氟酸性刻蝕液主要應(yīng)用于厚度達(dá)到或以上的銅膜層刻蝕工藝，其刻蝕均勻性好、側(cè)向刻蝕角度小、無金屬離子殘留、無銅膜層殘留、無氟環(huán)境友好綠色環(huán)保。