一種芯片集成電路四甲基氫氧化銨顯影液用非離子表面活性劑的提純方法及其顯影液

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110241380.8 申請日 -
公開（公告）號 CN112859551A 公開（公告）日 2021-05-28
申請公布號 CN112859551A 申請公布日 2021-05-28
分類號 C08G65/30(2006.01)I;B01F17/00(2006.01)I;G03F7/32(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 李瀟逸;邢攸美;方偉華;倪蕓嵐;尹云艦;高立江 申請（專利權(quán)）人 杭州格林達電子材料股份有限公司
代理機構(gòu) 北京志霖恒遠知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 奚麗萍
地址 311228浙江省杭州市蕭山區(qū)紅十五路9936號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種芯片集成電路四甲基氫氧化銨顯影液用非離子表面活性劑的提純方法及其顯影液產(chǎn)品，所述芯片集成電路四甲基氫氧化銨顯影液用非離子表面活性劑的提純方法包括以下步驟：非離子型表面活性劑的溶解、雜質(zhì)析出、雜質(zhì)分離、分析雜質(zhì)離子濃度、加純水稀釋并重復(fù)前面步驟直至各指標(biāo)達到半導(dǎo)體集成電路用顯影液的使用要求。所述顯影液產(chǎn)品是由純化后的非離子型表面活性劑的水溶液與四甲基氫氧化銨水溶液進行循環(huán)冷卻攪拌混合，得到四甲基氫氧化銨濃度為1?5 wt%的顯影液產(chǎn)品。本發(fā)明的提純方法操作流程簡單，設(shè)備需求簡單，成本低，在提純過程中不會引入其他雜質(zhì)組分，采用提純后非離子型表面活性劑水溶液進行復(fù)配的顯影液產(chǎn)品，可滿足芯片集成電路使用的潔凈度和應(yīng)用要求。??