一種氮化均勻的離子滲氮裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201921158778.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN210420119U 公開(kāi)（公告）日 2020-04-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN210420119U 申請(qǐng)公布日 2020-04-28
分類號(hào) C23C8/36 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林育周;劉浩;孔祥剛 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳市正和德昌科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 中山市興華粵專利代理有限公司 代理人 翁曉嬋
地址 518117 廣東省深圳市龍崗區(qū)坪地街道佳興路2號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種氮化均勻的離子滲氮裝置，屬于離子滲氮技術(shù)領(lǐng)域，所述滲氮裝置包括爐體和底座，所述爐體底部可拆卸連接有底座，所述爐體內(nèi)腔底部可拆卸連接有軸承，所述軸承上方轉(zhuǎn)動(dòng)連接有陰極支柱，所述軸承一側(cè)焊接有環(huán)形凸塊，所述環(huán)形凸塊上表面一體成型有環(huán)形插接塊，所述環(huán)形插接塊上方可拆卸連接有罩殼，所述罩殼頂部一體成型有連接塊。本實(shí)用新型通過(guò)導(dǎo)氣管設(shè)置有若干個(gè)，同時(shí)導(dǎo)氣管與空腔導(dǎo)通相連，通過(guò)抽氣管延伸至爐體外部并外接抽氣設(shè)備，可均勻的將罩殼內(nèi)部的氣體抽出，有利于提高氮化的均勻性，通過(guò)一號(hào)電機(jī)驅(qū)動(dòng)載板轉(zhuǎn)動(dòng)，從而使工件做圓周運(yùn)動(dòng)，使工件的首端和末端在相同的時(shí)間內(nèi)與陽(yáng)極的距離相同。