一種均溫真空離子滲氮爐

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921159236.4 申請日 -
公開（公告）號 CN210420122U 公開（公告）日 2020-04-28
申請公布號 CN210420122U 申請公布日 2020-04-28
分類號 C23C8/36 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林育周;劉浩;孔祥剛 申請（專利權(quán)）人 深圳市正和德昌科技有限公司
代理機構(gòu) 中山市興華粵專利代理有限公司 代理人 翁曉嬋
地址 518117 廣東省深圳市龍崗區(qū)坪地街道佳興路2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種均溫真空離子滲氮爐，屬于離子滲氮爐技術(shù)領(lǐng)域，包括爐體，所述爐體外側(cè)壁頂部水平方向固定連接有第一法蘭，所述爐體頂部可拆卸連接有頂蓋，所述頂蓋外側(cè)壁底部固定連接有第二法蘭，所述頂蓋內(nèi)部開設(shè)有冷卻槽，所述頂蓋頂部一側(cè)豎直方向開設(shè)有進氣管，所述頂蓋底部粘接有密封墊圈，其在工件支座的底部安裝有加熱器，可對工件進行加熱，縮短滲氮工藝的耗時，且能提高工件底部的溫度，避免了爐內(nèi)溫度不均導(dǎo)致影響工件滲氮效果和質(zhì)量的情況，頂蓋內(nèi)部開設(shè)有冷卻槽，通過注入冷卻水，可在進行滲氮工藝時降低頂蓋底部粘接的密封墊圈的受熱，使之保持完整，避免因為密封墊圈受熱變形導(dǎo)致影響爐體密封效果的情況。