一種耐溶劑反滲透復(fù)合膜的制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010807551.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN111939775A 公開(kāi)（公告）日 2020-11-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN111939775A 申請(qǐng)公布日 2020-11-17
分類號(hào) B01D71/56;B01D71/68;B01D71/02;B01D69/12;B01D69/02;B01D67/00 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 武少禹;張建峰;徐媛媛;劉星 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 安徽昂可特膜科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 210046 江蘇省南京市南京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)恒競(jìng)路25號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了利用光催化改性技術(shù)制備一種耐溶劑聚酰胺復(fù)合膜的方法。更具體地說(shuō)，將無(wú)機(jī)光催化納米材料引入了復(fù)合膜中的聚砜底膜及聚酰胺超薄復(fù)合層，通過(guò)紫外光照或電子束輻照產(chǎn)生自由基團(tuán)提高復(fù)合膜各層內(nèi)及界面層間的交聯(lián)度，使其表現(xiàn)出比純聚酰胺復(fù)合膜更優(yōu)良的耐溶劑性能，同時(shí)耐氧化及耐高溫性能也得到改善。