低溫等離子廢氣凈化裝置及凈化方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201611042400.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN106731541A | 公開(公告)日 | 2017-05-31 |
申請公布號 | CN106731541A | 申請公布日 | 2017-05-31 |
分類號 | B01D53/32(2006.01)I;B01D53/75(2006.01)I;B01D53/86(2006.01)I;B01D53/44(2006.01)I;B01D53/88(2006.01)I;B01D46/10(2006.01)I | 分類 | 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置; |
發(fā)明人 | 王海波;王衛(wèi)星;王中元;陳作橋 | 申請(專利權(quán))人 | 國佳環(huán)境科技湖北連鎖有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 武漢河山金堂專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 胡清堂 |
地址 | 433000 湖北省仙桃市經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)化工園區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種低溫等離子廢氣凈化裝置及凈化方法,凈化裝置包括具有凈化腔體的筒體,沿噴漆廢氣流動(dòng)方向依次設(shè)于凈化腔體內(nèi)的過濾層、第一光催化氧化機(jī)構(gòu)、低溫等離子體反應(yīng)器和第二光催化氧化機(jī)構(gòu);第一光催化氧化機(jī)構(gòu)包括依次設(shè)置的第一紫外燈層及第一光催化劑層,第二光催化氧化機(jī)構(gòu)包括依次設(shè)置的第二紫外燈層、第二光催化劑層和第三紫外燈層;其依次對噴漆廢氣進(jìn)行過濾處理、光催化預(yù)處理、氧化降解處理、光催化深度處理。本發(fā)明一方面結(jié)合光催化與低溫等離子技術(shù),提高了噴漆廢氣的凈化效率,另一方面在光催化預(yù)處理和深度處理時(shí)分別設(shè)置紫外燈和光催化劑的順序以便于與低溫等離子反應(yīng)器相配合,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)進(jìn)一步提高噴漆廢氣處理效率。 |
