一種提升金屬氧化物薄膜均勻性的磁控濺射腔體

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010179548.2 申請日 -
公開（公告）號 CN111254403A 公開（公告）日 2020-06-09
申請公布號 CN111254403A 申請公布日 2020-06-09
分類號 C23C14/35;C23C14/08;C23C14/50 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 巨錦華;林曉東 申請（專利權(quán)）人 中科微機(jī)電技術(shù)（北京）有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 100085 北京市海淀區(qū)西三旗昌臨813號A1號樓103室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種提升金屬氧化物薄膜均勻性的磁控濺射腔體，包括腔體，安裝在腔體上部的驅(qū)動裝置、磁性件和靶材，置于腔體內(nèi)的護(hù)板、基片和加熱器，安裝在腔體側(cè)壁的低溫泵；驅(qū)動裝置和磁性件相連接，靶材置于磁性件的下方，基片通過基座壓環(huán)安裝在加熱器上并置于護(hù)板圍成的空間內(nèi)，護(hù)板安裝在靶材與加熱器之間，還包括腔體混合進(jìn)氣裝置、篩形分氣裝置和轉(zhuǎn)軸，篩形分氣裝置安裝在腔體內(nèi)部，腔體的側(cè)壁設(shè)置總進(jìn)氣口，腔體混合進(jìn)氣裝置通過總進(jìn)氣口與篩形分氣裝置連通，轉(zhuǎn)軸與加熱器連接，用于帶動加熱器上的基片勻速旋轉(zhuǎn)。本發(fā)明通過設(shè)置腔體混合進(jìn)氣裝置、篩形分氣裝置和轉(zhuǎn)軸，提高了氣體分布均勻性和金屬氧化物薄膜均勻性。