一種提升金屬氧化物薄膜均勻性的磁控濺射腔體
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202020319044.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN212051630U | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-12-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212051630U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-12-01 |
| 分類號(hào) | C23C14/35(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 巨錦華;林曉東 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中科微機(jī)電技術(shù)（北京）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 100085北京市海淀區(qū)西三旗昌臨813號(hào)A1號(hào)樓103室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種提升金屬氧化物薄膜均勻性的磁控濺射腔體，包括腔體，安裝在腔體上部的驅(qū)動(dòng)裝置、磁性件和靶材，置于腔體內(nèi)的護(hù)板、基片和加熱器，安裝在腔體側(cè)壁的低溫泵；驅(qū)動(dòng)裝置和磁性件相連接，靶材置于磁性件的下方，基片通過(guò)基座壓環(huán)安裝在加熱器上并置于護(hù)板圍成的空間內(nèi)，護(hù)板安裝在靶材與加熱器之間，還包括腔體混合進(jìn)氣裝置、篩形分氣裝置和轉(zhuǎn)軸，篩形分氣裝置安裝在腔體內(nèi)部，腔體的側(cè)壁設(shè)置總進(jìn)氣口，腔體混合進(jìn)氣裝置通過(guò)總進(jìn)氣口與篩形分氣裝置連通，轉(zhuǎn)軸與加熱器連接，用于帶動(dòng)加熱器上的基片勻速旋轉(zhuǎn)。本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置腔體混合進(jìn)氣裝置、篩形分氣裝置和轉(zhuǎn)軸，提高了氣體分布均勻性和金屬氧化物薄膜均勻性。?? |
