包括控制系統(tǒng)的反應(yīng)濺射設(shè)備及反應(yīng)濺射方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110936317.6 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113584442A 公開(kāi)（公告）日 2021-11-02
申請(qǐng)公布號(hào) CN113584442A 申請(qǐng)公布日 2021-11-02
分類(lèi)號(hào) C23C14/34（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I;G05B19/05（2006.01）I 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林曉東;趙照 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 中科微機(jī)電技術(shù)（北京）有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 100085北京市海淀區(qū)西三旗昌臨813號(hào)A1號(hào)樓103室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)公開(kāi)了一種包括控制系統(tǒng)的反應(yīng)濺射設(shè)備及反應(yīng)濺射方法，通過(guò)采集濺射電壓或功率的方式來(lái)建立閉環(huán)控制反饋機(jī)制，通過(guò)控制器改變?yōu)R射功率來(lái)準(zhǔn)確地來(lái)調(diào)控反應(yīng)氧化的階段及靶材的氧化程度，使氧化釩的反應(yīng)穩(wěn)定地處于過(guò)渡模式。本申請(qǐng)采用調(diào)整功率控制電流穩(wěn)定的方案，成膜的均勻性好，有助于規(guī)?；a(chǎn)，反應(yīng)對(duì)調(diào)控功率的響應(yīng)速度快，無(wú)調(diào)控反應(yīng)氣流技術(shù)方案中滯后效應(yīng)。